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概要
マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置(GDS)
GD-Profiler2
表面分析・深さ方向元素分析を迅速かつ簡単に
サブnmオーダーの分析が可能なGDS新製品が登場!
GDS(GD-OES)分析装置は、迅速かつ簡単な表面分析装置・深さ方向元素分析装置として、めっき・熱処理・表面処理・コーティングなどの研究開発や製膜評価において、幅広く活用されています。高周波方式グロー放電を採用しているため、非導電性試料でも表面分析が可能です。
・表面分析をしたいときに、すぐ表面分析がしたい
・たくさんの試料・検体数の表面分析/深さ方向分析がしたい
・定量的な表面分析がしたい
といった、表面分析/深さ方向分析のお悩み・お困りにお応えすることができます。
このGDS(GD-OES)分析装置に、今回新しくGD-Profiler2という新製品が発売されました。このGD-Profiler2では、低速スパッタリングが可能になったことで、従来難しかった有機皮膜の分析が可能になり、またサブnmオーダーのより高い深さ方向分解能で分析することが可能になりました。
迅速表面分析が可能!
約1〜10μm/minのArスパッタリングにより、深さ方向元素分析が迅速に行えます。
XPS・オージェ・SIMSのような表面分析装置と異なり、高真空を用いないため、測定したいときにすぐ測定が行えます。
非導電性試料の測定が可能!
高周波方式グロー放電(rf-GD-OES)だから、酸化膜・セラミクス・ガラスといった非導電性材料の深さ方向分析が行えます。
パルススパッタリング採用で、サブnmオーダーの分析が可能に!
マーカス型グロー放電を採用しているため、数nmといった深さ方向分解能(試料形状・マトリクスによる)で薄膜分析が行えます。
高速スパッタリングが可能なため、数〜数10μmといった厚い皮膜までも迅速にスパッタする事ができ、界面分析が可能です。
軽元素測定も可能
幅広い波長範囲(110〜900nm)をもった分光器を採用しているため、H・Li・C・N・Oなどの軽元素の深さ方向分析も行えます。
数多くの実績により洗練されたデータ処理機能
数多くのお客様にお使いいただくことで得られたニーズを取り組んだ解析ソフトウェアQuantum XPには、タスク処理・Time Plus機能・マルチウィンドウなど、便利なデータ処理機能があり、非常に便利です。
表面分析/深さ方向分析
めっき、熱処理、表面処理、コーティング(CVD・PVD・スパッタなど)、表面改質、塗装等による各種表面処理品の組成分析・界面分析
バルク分析(固体分析)
Fe系、Al系、Cu系、Ni系、Mg系、Zn系、Pb系、Sn系など各種金属・合金の組成分析
次の2機関ではJY-5000RFを使って有償受託分析事業を展開しています。
日鐵テクノリサーチ :
http://www.nstr.co.jp/
環境技研リサーチセンター :
http://www.get-c.co.jp/
なお、弊社分析センター:
http://www.jp.horiba.com/support/a_center/
においても受託分析を行うこともできます。
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