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分光エリプソメータ UVISEL
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分光エリプソメータ(薄膜計測、膜厚計) UVISEL
UVISEL、超薄膜多層サンプルの高感度分析が実現
概要
ジョバンイボン社製 分光エリプソメータ「UVISELシリーズ」は、超薄膜多層サンプルを高感度にて分析を行う事を目的とし開発された薄膜計測装置です。 本装置ではフォトエラスティックモジュレーター(光弾性変調器)を採用することにより、反射光の微少な位相変化量Δ、反射振幅比角Ψを高感度にて検知し あらゆるサンプルの膜厚特性測定を行うことを可能とした究極の研究用エリプソメータです。分光エリプソメータ「UVISELシリーズ」はあらゆる材料研究、成膜研究分野において高い測定性能を発揮し、高度な解析ソフトウェア機能と併せ、皆様の研究のサポートを行うことをお約束します。

分光エリプソメータ「UVISELシリーズ」が採用している位相変調方式の特徴として無反応の領域がない事、またFUV(紫外線)からNIR(近赤外線)にかけてすぐれたS/N比を示すことから、きわめて高い精度と正確さを備えております。この方式を採用することによって全領域で高精度のΔ値が得られ、とりわけ透明基板の超薄膜測定において高い正確さを発揮します。
現在、あらゆる種類の研究開発作業に適応するべく、オプションとして可視光領域に加え、紫外領域190nmから近赤外領域1700nmまでの幅広いスペクトルレンジに対応可能です。

ソフトウェアは豊富なアプリケーション・データベースを備え、オプションも多数用意されています。

分光エリプソメータ「UVISELシリーズ」は研究目的のほか、企業の研究開発やプロセス開発にも使用されます。そのすぐれた性能と多彩なオプションにより、材料・表面科学にまつわるあらゆる分野で皆様の研究・開発をサポートいたします。
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製品ラインナップ
 UVISEL
一般用途向け標準スペクトルレンジ
波長範囲 240nm〜830nm
UVISELは240〜830nmの標準的なスペクトルレンジに対応しますが、FUVとNIRのいずれの波長域にも容易に拡張できます(以下の機種説明をご覧ください)。また多彩なオプションを付加することで、性能と適用レンジを拡張できます。
 UVISEL NIR
超厚膜測定およびNIR用途向けの高分解能タイプ
波長範囲 260nm〜2100nm
UVISEL NIRは、UVISELのスペクトルレンジを2100nmまでの近赤外域に広げた機種です。データ収集を行う自動式デュアルグレーティングを備えた、きわめて高い分光分解能をもつ2出力の分光器(HR-460)を使用します。この特徴は、膜厚の厚い透明膜を分析するときなどに威力を発揮します。

膜厚が厚くなるほど干渉縞の間隔は狭くなります。膜厚が5μmを越えると、干渉縞を正しく分離するために高い分解能をもつ分光器が必要となります。

分光器の自動制御(回折格子、スリット、検出器の選択)により、全波長域にわたって連続測定を実現します。
 UVISEL FUV
紫外域において高い光スループットとすぐれたS/N比を実現
波長範囲 190nm〜830nm
UVISEL FUVは、UVISELのスペクトルレンジを190nmまで拡張した機種です。
ジョバンイボン社内で開発した新設計のM200モノクロメータは、迷光レベルを極限まで低く抑えています。そのため高スループットの光学系と合わせて使用することで、UVISEL FUVは妥協のない極めて高い感度と精度をもっていると評価されています。
 UVISEL ER
最も幅広いスペクトルレンジ
波長範囲 190nm〜2100nm
UVISEL ER(Extended Range)は190nm〜2100nmという広範囲なスペクトルレンジに対応します。2種類のモノクロメータ(FUV用のM200とNIR用のHR460)を搭載しています。

UVISEL ERはきわめて高い性能を発揮するとともに、あらゆる応用分野に使用できます。
 UVISEL MWL
高速性と高分解能を兼ね備えたベストソリューション
波長範囲 190nm〜830nm
UVISEL MWL(MultiWaveLength)は32個のフォトマル検出器を搭載し、超高速分光測定が行えます。

UVISEL MWLは高速データ収集と高分解能を両立させた高性能分光エリプソメータです。ジョバンイボン社の研究開発部門が開発した先進テクノロジー(特許取得済み)により、要望に応じてn×32(n=2, 最大64)の波長が使用できます。
MWLは、高スループットが必要なケースに最適なソリューションです。またこれはin-situ測定にも適しています。

正確度の高い特性測定を行う分光器との組み合わせも容易にできます。
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仕様
  標準仕様
  オプション
UVISEL
 スペクトル域
 標準:240〜830 nm
     
 NIR:260〜2100 nm
 
     
 FUV:190〜830 nm
   
 
 ER:190〜2100 nm
     
 
 機械部品および光学部品
光源
75W
Xe-ランプ
   
150W
Xe-ランプ
   
サンプル
ステージ
手動
〈仕様〉
150mmウェハ対応、XY軸は固定、水平姿勢により安全操作と簡単測定が可能.
〈位置合わせ〉
高さ(20mm)、傾斜、θの手動調節、真空ラインとの接続、オートコリメーションシステム
XY自動
〈仕様〉
可動範囲: 200×200mm、水平姿勢により安全操作と簡単測定が可能、特注により大型基板用ステージも対応可能.
〈位置合わせ〉
傾斜と高さは4mmまで調節可能、真空ラインとの接続、オートコリメーションシステム、CCDカメラのオプションあり
ゴニオ
メータ
固定
角度が55°〜75°において5°刻みで手動設定可能
自動
角度が50°〜90°において0.01°刻みで自動調節可能
 電源
 (全機種共通)
AC100V±5%、50/60Hz±1Hz、1.5kVA以下、3端子コンセント2口以上
 排気
 (全機種共通)
ダクト径: Ø100mm、流量: 約30m3/h、用途: 光源熱排気用
 窒素ガス
 (FUV、ERタイプ)
流量: 4〜6L/min(圧力50kPa以上)、配管径: 外形6mm(Ø6mm/4mm配管)
用途: 光源パージ用
 外形寸法:質量
 (UVISELおよびUVISEL FUVタイプ)
本体部:1800(W)×750(D)×1550mm(H)、200kg
PCラック:670(W)×690(D)×1450mm(H)、80kg
 標準付属品
PC、モニタ、プリンタ、PCラック、設置台、トランス、定電圧電源
  波長範囲
波長範囲
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