The subject of this page applies in:
Japan
Alternative website:
HORIBA Japan
ホーム
>>
製品情報
>>
製品名から探す
>>
分光エリプソメータ(膜厚計)
>> エリプソの手引き
一覧
エリプソメトリとは?
・
解析内容
原理
分光エリプソの必要性
・
薄膜1層の場合 (1)
・
薄膜1層の場合 (2)
・
多層膜の場合
特徴と欠点
測定方法
JYエリプソメータ
・
構成
・
測定結果
・
測定データの解析
解析手順
光学定数の設定
・
参照試料の光学定数
・
分散式
・
Classical分散式
平均一・不連続な膜の解析
・
有効媒質近似(EMA)
・
解析例
解析困難なサンプル
分光エリプソで解析困難なサンプルとは?
エリプソメータ製品情報
1.
300
以上の金属膜の膜厚
ほとんどの金属ではこの厚さ以上になると光が通らないため、膜厚を計算することはできません。この場合、バルクとしてN, Kのみの計算になります。
2.
膜厚8
m以上の厚い膜
分光器の分解能が限界になります。また、5
m以上では計算された膜厚に誤差が大きくなります。
3.
材料間にN, K(光学定数)の違いがほとんど見られないサンプル
基本的に材料間の光学定数に違いがほとんど見られない場合、これらの膜厚を分けることは非常に困難です。一般的に分光エリプソで膜厚を計算するには、材料間の屈折率の差が0.01以上必要です。
(例1)
Si基板上のエピSi → 完全にSiになっていると基板との区別を付けることができません。このとき界面層などが存在していると解析可能な場合もあります。
(例2)
石英ガラス基板上のSiO2 → 石英ガラス基板とSiO2はほとんど屈折率・吸収係数が変わらないので、SiO2の膜厚を計算することはできません。
エリプソメータ製品情報
On this website
Search
検索
製品情報
製品名から探す
アプリケーションから探す
カタログ
論文
アプリケーションノート
参考文献
General Information
イベント
リンク
IR情報
ヒストリー
企業情報
お問い合わせ
サイトマップ
English
Home