HORIBA JOBIN YVON

The subject of this page applies in:
Japan
Alternative website:
HORIBA Japan
製品情報 製品名から探すエリプソの手引き
製品カテゴリ一覧
分光エリプソメータ(膜厚計)TOP
  一覧
  原理
アプリケーションから探す
FPD
化合物半導体
歪みSi
アプリケーションノート TOP
半導体
ゲートインスレータ
Low-K
SOI (SOI、SiMox)
強誘電体
フォトレジスト
コーティング
ストレージ
バイオ
不均一・不連続な膜はどのように解析するのでしょうか?
エリプソメータ製品情報
これまで、薄膜の解析に関して、膜は均質かつ連続で、平行平面膜であると仮定してきました。しかし、実際の膜は通常、不均質・不連続であったり、膜面および界面にラフネスが存在します。ではこの場合、どのように解析したら良いのでしょうか?


解析時の仮定
  1. 膜表面は散乱がなく、平らである
  2. 全ての物質は等方性(均質)かつ連続である

実際は・・・
  1. すべての膜は原子レベルで見ると不均質・不連続
  2. 膜面・界面にラフネスが存在


どのように解析すればよいのか?


有効媒質近似を使用
エリプソメータ製品情報

On this website

Search